INTEL 45 nm tech process

субж : english only :idea:

msn-cnet.com.com/2300-1006_3-6030916-1.html?tag=ne.gall.pg

Цитата:
.....Intel is considering using immersion lithography for 32-nanometer chips, which will come out in 2009. According to Intel, Extreme Ultraviolet lithography (EUV) is "more likely for 22-nanometer" manufacturing, which starts in 2011.

Если данная информация оказалась полезной/интересной - плюсаните, пожалуйста:

Отправить комментарий

Содержание этого поля является приватным и не предназначено к показу.
  • Разрешённые HTML-теги: <a> <em> <strong> <cite> <code> <ul> <ol> <li> <dl> <dt> <dd> <img>
  • You can use BBCode tags in the text. URLs will automatically be converted to links.

Подробнее о форматировании текста

Антибот - введите цифру.
Ленты новостей